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2.在干净柔软的纯棉抹布上沾水(以免抹布完全湿)，用力擦拭，再浸泡，然后前后擦拭，直到溶解喷洒的碱的部位比原来的光泽要高得多。
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目前纳米级集成电路芯片生产要求气体中杂质的浓度要控制到19-9级或10-12级,要求超纯水的电阻率为18MΩ·cm,杂质浓度为19-9级或10-12级。
GMP车间净化随着医药、食品工业的发展，新的洁净车间不断建设，原有的生产厂房也进行改造，使之符合现代洁净生产的要求。
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